مرحله پوشش دهی CVD به شرایط واكنش وابسته است و در مقایسه با سایر روشها، PVD )مانند رسوب دهی پاششی یا رسوب دهی با لیزر ضربانی(، تبخیر و ..، با كیفیت باﻻئی انجام می شود.
در PVD منبع مستقیما به سمت سابستریت هدایت می شود كه پوشش ناهموار را ایجاد می كند. در شكل باﻻ نشان داده شده است
آی-ویدئو